MgO(001)表面上沉积MgO薄膜过程的分子动力学模拟

摘要：

采用分子动力学方法模拟了MgO分子连续沉积于MgO(001)表面上的薄膜生长过程,分析了衬底温度和分子入射能对MgO分子在衬底表面上的扩散能力以及对衬底表面覆盖率的影响.模拟结果表明,随着衬底温度的升高,在衬底表面上沉积的MgO分子扩散能力增强,MgO薄膜层中空位缺陷变少.低温下,分子入射能的增大有助于提高衬底表面覆盖率;高温下,表面覆盖率随入射能增大到3.0 eV时达到最大值,入射能继续增大,表面覆盖率减小.

关键词：MgO薄膜生长、分子动力学、计算机模拟、表面扩散

所属期刊栏目：58

分类号：O4(物理学)

资助基金：国家自然科学基金50572013

在线出版日期：2009-08-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：199-203