一种侧链共轭聚噻吩衍生物薄膜的三阶非线性光学响应

摘要：

合成了一种侧链共轭的聚噻吩衍生物聚3-(5′辛基-噻吩乙烯基)噻吩(POTVTh),并通过溶液旋涂制备了聚合物薄膜.吸收光谱显示该聚合物薄膜具有较小的禁带宽度和宽的光谱响应.采用Z扫描技术在800 nm下用飞秒激光器研究了该聚合物薄膜的三阶非线性光学特性,非线性吸收系数为5.63×10-7 cm/W,非线性折射率为-6.38×10-11 cm2/W,三阶非线性极化率为4.21×10-9 esu,比侧链未共轭的共轭聚合物材料大一到两个数量级,说明该聚合物具有良好的三阶非线性光学特性.

关键词：聚噻吩衍生物、侧链共轭、三阶非线性极化率、非线性折射率

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分类号：O4(物理学)

资助基金：国家自然科学基金60578039;陕西省工业攻关计划2007K06-06;中国博士后科学基金20070421134;西安近代化学研究所开发基金

在线出版日期：2009-06-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：3578-3583