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10.3321/j.issn:1000-3290.2009.04.097

NiTi合金薄膜厚度对相变温度影响的X射线光电子能谱分析

引用
采用X射线衍射和X射线光电子能谱实验手段对不同厚度的NiTi薄膜相变温度的变化进行了分析.结果表明在相同衬底温度和退火条件下,3 μm厚度的薄膜晶化温度高于18 μm厚度的薄膜.衬底温度越高,薄膜越易晶化,退火后薄膜奥氏体相转变温度As越低.薄膜的表面有TiO2氧化层形成,氧化层阻止了Ni原子渗出;膜与基片的界面存在Ti2O3和NiO.由于表面和界面氧化层的存在,不同厚度的薄膜内层的厚度也不同,因而薄膜越薄,Ni原子的含量就越高.Ni原子的含量的不同会影响薄膜的相变温度.

NiTi合金薄膜、X射线衍射、相变、X射线光电子能谱

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O4(物理学)

哈尔滨工程大学科研启动金资助项目HEUFT08035;国家博士后科学基金20060390432;黑龙江省博士后科研启动资助项目LBH-Q08123

2009-06-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

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物理学报

1000-3290

11-1958/O4

58

2009,58(4)

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