Er3+注入CdTe薄膜的结构和光电性能研究

摘要：

采用离子注入技术对近距离升华制备的CdTe薄膜进行Er3+掺杂研究.讨论了不同掺Er3+浓度对CdTe薄膜的结构和光电性能的影响.利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、紫外-可见分光光度计、霍耳效应测试系统和复阻抗分析仪对样品进行测试.结果表明,适当的掺杂量可以改善CdTe薄膜的结晶性能,降低晶界势垒高度,提高其导电性能.在一定掺杂范围内掺Er3+对CdTe薄膜的光能隙影响不大.

关键词：CdTe薄膜、离子注入、晶界势垒、光能隙

所属期刊栏目：55

分类号：O6(化学)

在线出版日期：2007-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：6684-6690