(111)取向(Pb,La)TiO3铁电薄膜中90°纳米带状畴与热释电性能的研究

摘要：

采用射频磁控溅射技术在Pt/Ti/SiO2/Si(100)衬底上生长了掺镧钛酸铅(PLT)铁电薄膜.用X射线衍射技术(XRD)研究了PLT薄膜结晶性能,结果表明PLT薄膜为(111)择优取向钙钛矿相织构.使用原子力显微镜(AFM)和压电响应力显微镜(PFM)分别观察了PLT薄膜的表面形貌和对应区域的电畴结构.PFM观察显示PLT薄膜中存在90°纳米带状畴,电畴的极化为首尾相接的低能量的排列方式,带状畴的宽度为20-60nm.研究了PLT10铁电薄膜的制备条件与性能之间的关系.发现在优化条件下制备的PLT10铁电薄膜的介电常数εr为365、介电损耗tgδ为0.02,热释电系数γ为2.18×10-8C·(cm2·K)-1,可以满足制备非制冷红外探测器的需要.

关键词：PLT薄膜、电畴、PFM、极化

所属期刊栏目：55

分类号：O6(化学)

资助基金：国家自然科学基金50132020;国家自然科学基金60471044;国家重点基础研究发展计划973计划Z06-1

在线出版日期：2006-11-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：6123-6128