投影电子束光刻中电子穿透掩膜的Monte Carlo模拟

摘要：

利用基于Mott散射截面和介电函数模型的Monte Carlo方法模拟了电子穿透掩膜的能量损失分布,其计算结果与实验结果符合很好.由此进一步计算了角度限制投影电子束光刻(SCALPEL)掩膜的穿透率和衬度,结果表明:散射体的厚度对衬度的影响较大,衬度随散射体厚度的增加而增强,而支撑体对衬度的影响较小;增大限制孔的孔径角时,透射率相应增大,但衬度会降低;衬度随入射电子的能量增加而减小.

关键词：Monte Carlo模拟、电子束光刻、掩膜

所属期刊栏目：55

分类号：O57(原子核物理学、高能物理学)

资助基金：国家自然科学基金10574121;60306006;90406024;安徽省自然科学基金05021015;安徽省人才基金2001Z016

在线出版日期：2006-11-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：5803-5809