10.3321/j.issn:1000-3290.2004.05.044
Fe-Ni合金薄膜的结构和磁性
用射频磁控溅射制备了Fe-Ni薄膜,研究了薄膜成分、溅射条件及热处理温度对薄膜结构和磁性的影响.通过选择适当的溅射条件和热处理温度,可得到适合于磁头材料应用的高饱和磁化强度的Fe-Ni软磁薄膜.
Fe-Ni薄膜、磁头材料
53
O4(物理学)
2004-07-02(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共6页
1510-1515
10.3321/j.issn:1000-3290.2004.05.044
Fe-Ni薄膜、磁头材料
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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