钛表面含硅羟基磷灰石涂层的电化学合成和表征

摘要：

在含有Ca2+,PO43-以及 SiO32-的电解液中,通过电化学恒电位方法,在工作电压为3 V温度为85℃的条件下沉积1 h,于钛表面上制得含硅羟基磷灰石涂层.通过电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP)、扫描电镜(SEM)、X-射线衍射(XRD)、探针式轮廓仪(SP)、红外光谱(FTR)对涂层进行分析.结果表明:电化学恒电位方法可制得si饱和含量为0.55wt%左右的Si-HA涂层,Si以SiO44-形式取代PO43-进入HA晶格,造成羟基磷灰石中OH-减小以维持电荷平衡.另外,电解液中Si元素的存在抑制涂层中HA晶体的生长,使涂层变薄,且当电解液中nsi/(nsi+np)达到20%时si-HA晶体形貌由单独的棒状转变为根部相连的树枝状.

关键词：羟基磷灰石、硅掺杂、电化学沉积、涂层

所属期刊栏目：27

分类号：TB333;O646(工程材料学)

资助基金：国家自然科学基金50571088

在线出版日期：2011-09-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：1027-1032