沉积温度对磁控溅射镀钌薄膜微观结构和附着力的影响

摘要：

采用中频磁控溅射技术在钼圆片表面镀覆钌薄膜,通过 X 射线衍射仪、扫描电镜、平整度仪、宏观浸蚀试验和百格测试等对镀层进行表征和检测,研究不同沉积温度对薄膜微观结构和附着力的影响。结果表明,随着沉积温度由室温升至200℃,钌薄膜的表面平整性和致密性逐步改善,附着力得以提高；200℃沉积薄膜的膜/基结合力最大,其微观结构、致密性等也均达到最优；但当沉积温度进一步提高到300℃时,钌薄膜的表面起伏反而增大,附着力有所下降。

关键词：钌薄膜、钼基片、磁控溅射、镀膜、沉积温度、附着力、微观结构

所属期刊栏目：40

分类号：TG174.444(金属学与热处理)

在线出版日期：2017-03-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：23-26