PCVD法渗6.5%Si的动力学问题研究

摘要：

提高硅钢片磁性能的最佳途径是提高钢片的硅含量.本研究采用等离子体化学气相沉积(PCVD)法,在(0.1～0.3)mm厚的普通硅钢片表面上涂硅,然后进行短时问高温扩散处理.结果表明:硅钢片的Si含量可达到6.5%,磁性能有很大改善.在(460～600)℃范围内渗硅,其它条件不变,渗硅速度随着温度的升高而降低,这是由等离子体反应的特殊动力学和热力学性质所决定.

关键词：渗硅、PCVD法、动力学、磁性能

所属期刊栏目：23

分类号：TG156.8+3;O313(金属学与热处理)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：344-346