基片温度对纳米金刚石薄膜制备的影响

摘要：

采用多模谐振腔微波等离子体CVD在不同基片温度下制备了纳米金刚石薄膜,通过扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和拉曼光谱测试,研究了基片温度对纳米金刚石薄膜性能的影响.结果表明:在其他工艺条件不变时,基片温度对薄膜性能具有较大的影响,较低的基片温度更有利于制备高质量的纳米金刚石薄膜,实验所获得的优化基片温度为720℃左右.

关键词：微波等离子体、化学气相沉积、纳米金刚石薄膜、沉积温度

所属期刊栏目：34

分类号：O484.1(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金项目11175137

在线出版日期：2012-08-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：39-42,46