硅基表面无形貌改变的硫酸/过氧化氢氧化清洗

摘要：

提出了一种利用硫酸/过氧化氢溶液氧化清洗硅基的方法.硅片经超声预清洗后,放入硫酸/过氧化氢溶液中,80 ℃下氧化清洗其表面的污染物.通过接触角检测,表征了清洗前后硅基表面的亲水性变化.通过原子力显微镜(AFM)表征了经硫酸/过氧化氢溶液清洗后硅基的表面形貌.结果显示,经硫酸/过氧化氢溶液亲水化清洗30 min后的硅基表面的接触角为7.3 °,显示出很强的亲水性,其表面均方根粗糙度(RMS)仅为0.03 nm.因此,硫酸/过氧化氢氧化清洗法是一种硅基表面无形貌改变的亲水化清洗方法.

关键词：硅基、化学清洗、表面形貌

所属期刊栏目：31

分类号：TN304.1+2(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金20873097;绿色化工过程省部共建教育部重点实验室开放基金GCP200813

在线出版日期：2009-06-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：1-3