射频等离子体制备类金刚石薄膜及其表征

摘要：

采用射频等离子体技术,以CH4和H2为反应气体,在单晶硅片和载玻玻璃片上成功制备出了高质量的类金刚石薄膜.采用扫描电镜、原子力显微镜、Raman光谱、红外光谱、显微硬度计表征了类金刚石薄膜的表面形貌、微观结构、光学性能和复合硬度.结果表明,制备出的类金刚石薄膜表面十分平整光滑,表面粗糙度极低,平均粗糙度Ra为0.492 nm;薄膜中含有sp2,sp3杂化键,具有典型的类金刚石结构特征;光学透过率比较高,薄膜的复合硬度可以高达507.3 kgf/cm2.

关键词：射频等离子体、类金刚石薄膜、粗糙度、拉曼光谱、显微硬度

所属期刊栏目：31

分类号：TB43(工业通用技术与设备)

资助基金：国家自然科学基金50572075;湖北省教育厅2004年创新团队项目;湖北省教育厅Q20081505项目

在线出版日期：2009-04-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：60-63