氧等离子体刻蚀CVD金刚石膜

摘要：

分别采用直流辉光、微波和电子回旋共振3种氧等离子体对CVD金刚石膜表面进行了刻蚀.利用扫描电子显微镜对三种等离子体刻蚀后金刚石膜表面的形貌进行了观察分析.通过对刻蚀后形貌差异的比较,探讨了它们各自的刻蚀机理,并从等离子体鞘层理论出发建立了刻蚀模型.

关键词：氧等离子体、CVD金刚石膜、刻蚀机理

所属期刊栏目：31

分类号：TQ164

资助基金：国家自然科学基金10875093

在线出版日期：2009-03-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：65-68