10.3969/j.issn.1674-2869.2005.02.002
酞菁铁修饰碳糊电极测定抗坏血酸的研究
制备了酞菁铁-邻苯二甲酸二正辛酯修饰碳糊电极,发现该电极对抗坏血酸的电氧化具有催化作用.在最优化条件下,抗坏血酸的氧化峰电流与其浓度在1.0×10-6~3.4×10-4 mol/L范围内成良好的线性关系,检测限为3.2×10-7 mol/L.初步讨论了电催化机理.该电极已成功用于果汁和药品维生素C片中的抗坏血酸含量的测定.
修饰碳糊电极、酞菁铁、抗坏血酸、电催化
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O657.1(分析化学)
郧阳师范专科学校科研和教改项目2004C02
2005-05-12(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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