10.3969/j.issn.1674-2869.2005.01.017
微波等离子刻蚀CVD金刚石膜提高机械研磨效率
针对低温低压化学气相沉积(CVD)金刚石膜表面粗糙且厚薄不均,普通的方法抛光金刚石膜效率低的现象,采用空气等离子刻蚀金刚石膜与机械研磨相结合的抛光工艺,提高了金刚石膜的抛光加工效率.并与纯机械研磨法比较,通过观察样品的表面形貌,说明等离子刻蚀的作用.
金刚石膜、刻蚀、研磨
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O484.1(固体物理学)
2005-03-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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