100nm步进扫描光刻机硅片台掩模台运动结构设计

摘要：

本文介绍了基于直线电机、洛仑兹平面电机的0.1μm光刻机6坐标高速超精工件台的结构设计,其在300mm运动范围内,系统的定位精度和运动精度都达到纳米级,且具有优良的速度、加速度、变加速度等动态性能.

关键词：光刻机、步进扫描、高速高精

所属期刊栏目：31

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划2001AA423170

在线出版日期：2003-12-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：1-5，13