OMR-85光刻胶的研究与应用

摘要：

在半导体制造中,光刻胶是重要的原材料之一.本文从转速与膜厚、感光灵敏度、图形变化差等方面对ORM-85光刻胶进行了研究,得出了用于大生产的一套工艺.解决了接触式曝光方式粘版的问题及提高了产能.

关键词：光刻胶、感光灵敏度、图形变换差、接触式曝光

所属期刊栏目：30

分类号：TN304(半导体技术)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：51-53