涂胶设备背面冲洗功能的开发与研制

摘要：

本文根据涂胶设备在加工制品过程中所遇到的制品背面沾污问题,提出改进措施,并根据设备的具体情况,增加了涂胶设备的背面冲洗功能.使制品在涂胶过程中,及时地对制品背面进行冲洗,从而保证了制品背面的洁净度,对提高产品质量和提高产品的成品率有非常重要的意义,同时对开发一些技术要求较高的新品也有深远的影响.

关键词：涂胶机、光刻、烘炉、背面冲洗、分辨率、刻蚀

所属期刊栏目：30

分类号：TN305(半导体技术)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：42-46