如何有效提高光刻掩模版的使用寿命

摘要：

本文从接触式光刻技术的角度出发,对引起光刻掩模版局部损坏的可能原因进行分析,并根据遇到的具体情况,提出改进方法,开发新的生产工艺技术,使接触式光刻机掩模版的寿命有了很大的提高,对提高产品的成品率和降低生产成本也有非常重要的意义.

关键词：光刻、掩模版、膜厚、成品率、涂胶设备、集成电路

所属期刊栏目：30

分类号：TN305.7 (半导体技术)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：43-45