光波干涉测量结深

摘要：

在半导体芯片制造过程中,结深是重要的工艺参数之一.本文介绍用光波干涉法测量结深,操作简便,精度高,特别对10μm以下的结深测量,有其独到的优越性.

关键词：结深、光波干涉、干涉条纹、波长(λ)

所属期刊栏目：29

分类号：TN252(光电子技术、激光技术)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：25-28,41