大规模集成电路膜厚测量仪器校准检定初步探索

摘要：

在半导体圆片制造过程中，膜厚(SiO2、SiN、多晶Si等)测量是非常重要的工艺参数。本文介绍了几种主要的膜厚测量仪器以及这些仪器的校准检测方法，并着重介绍了校准用膜厚标准的制定及应用。

关键词：膜厚、膜厚标准、校准、检定、测量

所属期刊栏目：29

分类号：TN304.05(半导体技术)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：54-56