基于改进TOPSIS法的脉冲电沉积Ni-W-P镀层工艺优化

摘要：

以占空比、脉冲频率、电流密度、镀液温度为优化工艺参数,以镀层表面硬度、结合强度、磨损量、腐蚀速率为综合优化工艺目标,运用改进的TOPSIS法对脉冲电沉积Ni-P-W合金工艺参数进行优化.优化结果为:占空比30％、脉冲频率250 Hz、电流密8 A/dm2、镀液温度60℃.采用优化工艺参数进行脉冲电沉积Ni-P-W合金与最优试验设计组相比,表面硬度提高了8.14％,结合强度提高了5.32％,磨损量减小了4.26％,腐蚀速率减小了6.25％.

关键词：脉冲电沉积、Ni-P-W合金、工艺优化、改进的TOPSIS法

所属期刊栏目：31

分类号：TQ153

在线出版日期：2018-07-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：40-45