基于光闸莫尔原理的压印套刻对准方法

摘要：

为了满足压印光刻中套刻对准精度的要求,提出了一种基于光闸莫尔原理的粗精两步对准方法.设计了粗精两种对准标记,十字标记作为粗对准标记,等节距的光栅标记作为精对准标记.考虑到实际中通常采用分区步进压印工艺,因此在基片上的每一个压印分区都设计有相应的对准标记.分析了基于该方法的对准原理,得到了光刻机三坐标矢量与检测信号之间的对应关系,证明了该方法可实现x、y、θ三个方向的对准误差检测.在实际应用中,可将该误差信号作为控制系统的驱动信号,对承片台实行闭环控制,实现对准.该方法对压印光刻乃至其它光刻技术中的套刻对准,都具有一定的参考意义.

关键词：压印光刻、对准、光栅、莫尔信号

所属期刊栏目：18

分类号：TN305(半导体技术)

资助基金：天津工程师范学院科研发展基金KJ-ZJ2007001

在线出版日期：2008-05-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：17-20