准分子激光光刻技术及进展综述

摘要：

从准分子激光的概念及特点引入,概述了以248 nm KrF、193 nm ArF以及157 nm F2准分子激光光刻技术的现状和进展,并探讨了该领域面临的诸多挑战以及解决思路.

关键词：准分子激光、激光光刻、刻蚀、集成电路工艺

所属期刊栏目：18

分类号：TN249;TN305.7(光电子技术、激光技术)

资助基金：天津市高等学校科技发展基金20060605

在线出版日期：2008-05-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：1-5