顺序离子束溅射沉积制备GdAlO3单一晶相薄膜技术

摘要：

顺序沉积薄膜制备技术包括前驱薄膜制备和后期薄膜热处理技术,特别适合复杂组分的薄膜制备.采用IM100离子束材料芯片沉积仪在MgO(100)基片上顺序沉积Gd2O3和Al单层薄膜,经后续低温扩散和高温晶化两步热处理得到GdAlO3单一晶相薄膜.以X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)等手段,分析所得GdAlO3薄膜的晶体结构和微观形貌,考察热处理过程对GdAlO3薄膜生长过程及微观结构的影响.实验结果表明顺序沉积薄膜制备技术具有化学计量比控制精确的优点,两步热处理可以得到结晶状况良好的单相结晶薄膜.

关键词：离子束溅射、顺序沉积、两步热处理、GdAlO3单一晶相薄膜

所属期刊栏目：33

分类号：TB43(工业通用技术与设备)

资助基金：国家自然科学基金20151003/B01;上海市科技发展基金;上海市科委资助项目02JC14015

在线出版日期：2005-04-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：358-360,365