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10.3321/j.issn:0253-374X.2000.03.013

软X光激光In衰减膜的制备及测量

引用
通过对制备工艺的摸索,制备出用于软X光激光实验的In衰减膜;利用α能谱测厚仪对In衰减膜的质量厚度进行了测量;通过俄歇电子谱并结合Ar离子刻蚀对In膜表面氧化及氧元素质量分数的深度分布进行了分析.

In衰减膜、α能谱测厚仪、俄歇电子谱

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TB48(工业通用技术与设备)

国家青年激光技术基金;国家科技攻关项目

2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

312-315

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同济大学学报(自然科学版)

0253-374X

31-1267/N

28

2000,28(3)

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