对向靶磁控溅射纳米氧化钒薄膜的热氧化处理

摘要：

采用直流对向靶磁控溅射方法制备低价态纳米氧化钒薄膜,研究热氧化处理温度和时间对氧化钒薄膜的组分、结构和电阻温度特性的影响.采用X射线光电子能谱(XPS)、X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)对氧化钒薄膜的组分、结晶结构和微观形貌进行分析,利用热敏感系统对薄膜的电阻温度特性进行测量.结果表明,经300~360,℃热处理后,氧化钒薄膜的组分逐渐由V2O3和VO向VO2转变,薄膜由非晶态变为单斜金红石结构,具有金属半导体相变性能;增加热处理温度后,颗粒尺寸由20,nm增大为100,nm,薄膜表面变得致密,阻碍氧与低价态氧化钒的进一步反应,薄膜内VO2组分含量的改变量不大;增加热处理时间后,薄膜内VO2组分的含量明显增加,相变幅度超过2个数量级.

关键词：直流对向靶磁控溅射、纳米氧化钒薄膜、热氧化处理

所属期刊栏目：42

分类号：O484(固体物理学)

资助基金：国家"863"高技术研究发展计划资助项目2008AA031401;天津市应用基础及前沿技术研究计划重点资助项目08JCZDJC17500;天津市自然科学基金资助项目043600811

在线出版日期：2009-10-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：721-726