10.3969/j.issn.1672-0318.2013.03.014
氮化物硬质薄膜残余应力的研究进展
文章讨论了几种薄膜残余应力测试方法的优缺点,介绍了氮化物薄膜应力沿层深分布趋势的最新研究,偏压和N2分压工艺对薄膜应力的影响及几种调节薄膜残余应力的有效方法.脉冲偏压增大,薄膜残余应力显著增加;N2分压增大,薄膜残余应力显著增加.采用独立变化脉冲偏压或变化N2分压工艺制备的薄膜,其残余应力沿层深分布趋势明显均匀,薄膜残余应力可得到有效调整.
残余应力、应力分布、氮化物硬质薄膜
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TG174.444(金属学与热处理)
广东省自然科学基金资助项目编号S2011040004468
2013-07-10(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共7页
64-69,74