基于低压化学气相沉积方法的二维六方氮化硼薄膜制备

摘要：

六方氮化硼薄膜研究目前尚处于基础阶段,其制备方法尚不成熟.本文主要介绍了采用化学气相沉积(CVD)工艺,以环硼氮烷(Borazine)为先驱体,以Cu为衬底,得到结晶度高、尺寸大并且厚度均匀的六方氮化硼薄膜的制备过程,以及转移过程.

关键词：六方氮化硼薄膜、化学气相沉积、制备方法、转移过程

分类号：TN304.055;O484.1;TB383

在线出版日期：2018-07-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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