二维变线距光栅密度的检测

摘要：

变线距全息光栅平面单色仪由于具有自动聚焦、消像差、高分辨率以及减少杂散光等能力,因而在同步辐射装置、激光核聚变装置以及太空望远镜等设备中有着重要的应用.由于变线距全息光栅的制作及检测存在着相当的难度,制约了变线距全息光栅的推广应用.因此,变线距全息光栅的制作及检测研究,具有十分重要的理论及应用意义.变线距全息光栅的制作必须有高精度的密度检测技术相配合.比如,在变线距全息光栅的制作过程中,需要对用于形成变线距光栅的全息干涉条纹的线密度进行检测;对于已经制成的变线距全息光栅的线密度也需要进行检测,以检查光栅的制作质量.因此,变线距全息光栅线密度的检测,对提高变线距全息光栅的制作质量起着十分关键的作用.文中给出了二维变线距光栅的密度描述公式,讨论了干涉条纹的物理意义;应用干涉云纹法和条纹图像处理技术,对二维变线距光栅的密度分布进行了检测研究,给出了光栅密度的全场分布,并讨论了检测精度.

关键词：变线距光栅、线密度、干涉云纹、条纹图处理

所属期刊栏目：19

分类号：TH741(仪器、仪表)

资助基金：国家自然科学基金10272098

在线出版日期：2004-11-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：324-328