亚纳米级抛光加工实验室的管理与维护

摘要：

亚纳米级抛光是获得超光滑表面的主要方法.目前,常用的亚纳米级抛光方法有化学机械抛光(CMP)、电化学机械抛光(ECMP)、无磨料化学机械抛光(AP-CMP)、磁流变抛光(MRP)等.亚纳米级抛光质量受抛光液、抛光条件和抛光环境等诸多方面的影响.抛光实验室的抛光环境是超光滑表面的重要影响因素之一,必须对抛光环境的各个方面加以科学管理和维护.

关键词：亚纳米级抛光、平整度、超光滑表面、超洁净

所属期刊栏目：29

分类号：TG580.692(金属切削加工及机床)

资助基金：教育部人文社科青年项目11YJC630263;上海市教育委员会科研创新项目资助09ZZ86;海南大学青年基金项目qnjj1102;海南省自然科学规划项目710243

在线出版日期：2012-08-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：204-206,213