10.3969/j.issn.1000-8144.2012.10.003
含低剂量抑制剂的四氢呋喃水合物生成过程
在-5 ℃以下和常压条件下,以四氢呋喃(THF)水溶液(THF与水质量比为21:79)为基础,采用金相显微镜研究了THF水合物的生成过程实验结果表明,含有0.5%(w)抑制剂VC-713时,在9.4℃过冷度下需要温度突降才能激发生成THF水合物;THF水合物生成时先呈条状或枝状晶枝之后水合物在晶枝之间填充,最终在观察区域内THF水合物呈絮状:实验条件下THF水合物形成迅速,在75s内全部生成;随着过冷度和晶核的增加,初期生成THF水合物的反应速率较慢,随后反应速率迅速加快;不含抑制剂VC-713时,THF水合物可在9.4 ℃过冷度下迅速生成,水合物晶枝出现后迅速以已有晶枝为中心扩展至整个观察区域.
四氢呋喃水合物、水合物抑制剂、油气田、结晶
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TQ026(一般性问题)
国家自然科学基金青年科学基金项目50906087
2013-03-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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1120-1124