少层h-BN纳米片的制备及性能研究

摘要：

提出了一种简单且非催化的方法制备少层氮化硼(BN)纳米片.获得的BN纳米片大多由5～10 个原子层组成,厚度小于5 nm.最重要的是,由于少数激子和声子之间存在较强的相互作用,少层BN纳米片在紫外范围内表现出较强的光致发光.基于光致发光激发谱和紫外-可见吸收光谱分析,少层 h-BN 纳米片在5.8 eV和6.4 eV时显示出较大的光学带隙.光致发光、光致发光激发和紫外-可见吸收光谱的研究结果表明,目前的少层h-BN纳米片在紫外发光器和光电纳米器件方面具有广阔的应用前景.

关键词：BN纳米片、发光特性、光学带隙

所属期刊栏目：44

分类号：TB32(工程材料学)

资助基金：国家自然科学基金;吉林省科技发展计划项目

在线出版日期：2023-05-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：1-6