ASIC成功流片的可靠途径

摘要：

@@ 设计深亚微米ASIC是一个重大的挑战.ASIC设计方法对于大多数中国的工程师来讲是一个相对比较新的概念.在一个ASIC项目成功流片之前的过程中,实际有许多隐藏的技术和商业问题.事实上,由ASIC公司开发的用于中国市场的商业模型将用户与所谓的后端工艺相隔离,这把问题弄得更复杂.后端工艺是非常重要的,尤其在深亚微米工艺技术中.本次”ASIC成功流片的可靠途径”在线座谈将主要探讨技术挑战以及高性能高密度FPGA如何适用于ASIC原型建造的环境中.

机标关键词：深亚微米、技术挑战、工艺技术、中国、项目成功、设计方法、商业模型、工程师、高性能、高密度、原型、用户、线座、市场、开发、建造、环境、隔离、概念

分类号：V24;TP3

在线出版日期：2005-07-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：77-77,79