磁场闭合状态对等离子体空间分布及膜厚均匀性的影响

摘要：

本文采用Langmuir探针表征了磁控溅射环境下磁场闭合状态对ni(离子密度)、ne(电子密度)及Te(电子温度)空间分布的影响,讨论了该分布特征与膜厚均匀性的对应关系.结果表明:真空腔内等离子体密度的分布状态与膜厚随靶基距增大而递减的事实相反.其中磁场完全闭合状态时,ni与ne随r(测量点距靶材表面距离)增大而增大(ni最低3.04×1016/m3,最高1.09×1017/m3,ne最低1.07×1016/m3,最高6.41×1016/m3);不闭合状态时,ni与ne在r>115mm后明显低于前一状态但仍随r增大而略有上升.两种不同闭合状态的Te在沿r方向上分布趋势相似且变化均不明显(1.64ev～2.51ev).

关键词：Langmuir探针、ni、ne、Te、膜厚

分类号：TF7(炼钢)

在线出版日期：2010-12-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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