溶胶凝胶法制备二氧化硅膜及其无显影气相光刻

摘要：

为使无显影气相光刻应用于非硅衬底材料的刻蚀,扩宽其应用范围,研究了无显影气相光刻在溶胶凝胶法制备的二氧化硅膜中的应用.通过对溶胶凝胶化学过程的分析,考察了凝胶二氧化硅薄膜制备过程中的几个重要工艺参数,制备了结构均匀的二氧化硅薄膜.并将无显影气相光刻的方法应用于这种二氧化硅膜的刻蚀,通过优化后的光刻工艺参数得到了反差明显的光刻图形.

关键词：溶胶凝胶法、二氧化硅、无显影气相光刻、光刻

所属期刊栏目：39

分类号：O63(高分子化学（高聚物）)

资助基金：中国科学院资助项目59633110

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：19-22