H+辐照前后C-SiC涂层的XPS分析

摘要：

对不锈钢基体上离子束混合沉积的C-SiC涂层进行了H+辐照模拟试验,由SIMS测量H+辐照前后氢的浓试分布,采用沟电子能谱(XPS)对H+辐照前后涂层元素C和Si进行了内层电子结合能的测量分析,研究C及Si的化学键态的变化与H的关系,探讨SiC涂层阻氢机理.

关键词：C-SiC涂层、H+辐照、XPS

所属期刊栏目：16

分类号：TQ163+4;O483;O571.1

资助基金：国家自然科学基金59781002;中国工程物理研究院科研项目

在线出版日期：2004-06-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：33-37