丝裂霉素C在Epi-LASIK术矫正高度和超高度近视中的应用

摘要：

目的:观察丝裂霉素C(mitomycin C,MMC)应用于机械法-准分子激光上皮瓣下角膜磨镶术(epipdisaser in situ keratomileusis, Epi-LASIK)术矫正高度和超高度近视中的疗效.方法:将高度和超高度近视204例408眼随机分为两组,MMC组102例204眼;对照组102例204眼.所有手术皆运用AMO Amadeus II Microkeratome直线式角膜上皮刀制作角膜上皮瓣,MMC组术中激光切削后置0.2g/L MMC棉片于基质床60-90s;对照组除不置MMC外余操作相同.术后随访两组角膜上皮瓣愈合时间、术后刺激症状、haze反应及裸眼视力.结果:所有患者均顺利完成手术.MMC组和对照组Epi-LASIK术后刺激症状皆轻微,316眼(77.4%)疼痛评分为0～1分.角膜上皮瓣愈合时间为3～6d.术后6mo查MMC组中199眼(97.5%)UCVA达到并超过BCVA;对照组168眼(82.4%)UCVA达到并超过BCVA;MMC组视力回退者5眼(2.5%),对照组视力回退者36眼(17.6%).术后6mo haze反应MMC组与对照组对比,haze 2级及haze 2级以上差异有显著性(P<0.05),有统计学意义.结论:Epi-LASIK术矫正高度和超高度近视中应用0.2g/L MMC对减轻haze的形成、防止视力回退安全有效.

关键词：丝裂霉素C、机械法-准分子激光上皮瓣下角膜磨镶术、haze、视力回退

所属期刊栏目：09

分类号：R77;R73

在线出版日期：2009-10-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：743-745