准分子激光角膜上皮下磨镶术中应用丝裂霉素C预防Haze的早期临床观察

摘要：

目的:探讨准分子激光角膜上皮下磨镶术中联合应用丝裂霉素C预防术后上皮下浑浊(Haze)的发生.方法:患者42例(84眼)分为A、B两组,A组右眼进行常规LASEK手术,不用丝裂霉素C;B组左眼常规LASEK手术+0.2 g/L丝裂霉素C棉片于激光治疗区12～15 s,术后随访6 mo.结果:A组出现1级Haze18例,2级或以上Haze5例,Haze发生率55%;B组出现1级Haze7例,2级或以上Haze2例,Haze发生率21%,两组Haze发生率差异有统计学意义(P＜0.001).结论:LASEK手术中联合应用0.2g/L丝裂霉素C可降低Haze的发生率同时减轻Haze的程度,但是其更远期的疗效及副反应有待于进一步的观察.

关键词：准分子激光角膜上皮下磨镶术、丝裂霉素C、上皮下浑浊

所属期刊栏目：6

分类号：R77(眼科学)

在线出版日期：2007-01-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：1472-1473