羟基磷灰石义眼座植入后暴露原因分析与处理

摘要：

目的探讨分析羟基磷灰石(HA)义眼座植入后暴露的原因及处理.方法对¨例HA义眼座植入后发生暴露的患者进行回顾性总结分析.结果HA义眼座轻度暴露＜5mm,一般不须处理,2～9个月可以愈合.中度暴露≤10mm,可药物观察治疗,也可行结膜修补术.重度暴露10～25mm,巩膜溶解HA义眼座大面积暴露,行HA义眼座取出,结膜囊修补,自体真皮脂肪瓣修补缺损区.结论义眼座暴露为HA义眼座植入术后较严重并发症,真皮脂肪瓣,保存人羊膜都可用于结膜囊形成与修复,双层袋状巩膜缝合,置于HA义眼座前,可有效减少植入物的脱出.

关键词：HA义眼座、义眼座暴露、结膜修复

所属期刊栏目：2

分类号：R77(眼科学)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：65-66