"挑战×机遇2020"——科技艺术在中国首届学术论坛综述

摘要：

以"挑战×机遇2020"为主题的首届学术论坛于2020年8月15日在中央美术学院召开.由中央美术学院科技艺术研究院主办,中央美术学院学报编辑部和中央美术学院实验艺术学院承办.本次论坛共邀集14位学者就相关议题展开热烈研讨.论坛分为两场,分别以"遗产、理论与反思"和"前沿实践与策展"为题展开探讨.

机标关键词：科技艺术、学术论坛、在中国

分类号：J06;TB482;TP391.72

在线出版日期：2021-02-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：52-55