光刻技术发展现状分析

摘要：

随着半导体工业和纳米技术的飞速发展,对光刻技术提出了越来越高的要求.光学光刻技术经过几十年的发展,在方方面面都取得了巨大进步,同时在现有基础上继续提高也存在着难以克服的困难;而下一代光刻技术(NGL)尽管取得了一些突破,但由于费用、生产率、实现性等问题,投入大规模使用尚待时日.在未来几年内,光学光刻的主流地位仍然不可动摇.本文分析了当前一些光刻技术的发展状况,并对光刻技术的发展趋势进行了展望.

关键词：光刻、分辨率、抗蚀剂、掩模、曝光

所属期刊栏目：19

分类号：TN3(半导体技术)

在线出版日期：2005-11-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：26-29