磁共振灌注成像在卒中后早期新发病灶中的预测价值
目的 探讨磁共振灌注成像(PWI)在预测卒中治疗后早期新发病灶中的价值.方法 纳入2017年1月至2018年11月急诊入院的脑卒中患者55例为研究对象.所有患者均于血管再通治疗前及治疗后24h内接受MRI及PWI检查.测量梗死核心区(DWI上高信号区)、高危低灌注区(随访MRI中新病灶所对应的治疗前低灌注区)及其他低灌注区(梗死及高危低灌注区以外的低灌注区)的PWI参数.采用统计学方法分析不同区域PWI参数的差异,并应用受试者工作特征曲线(ROC)分析PWI参数在预测卒中后新发病灶的价值.结果 55例中有新发病灶者40例,无新发病灶者15例.新发病灶组的患者年龄明显偏大,糖尿病病史患者较多(P=0.020;P=0.020).新发病灶组高危低灌注区的平均通过时间(MTT)(10.26±3.05)s和达峰时间(TTP)(36.58±10.93)s长于其他灌注区(9.17±2.45)s、(32.81±8.01)s,两者差异均有统计学意义(P=0.013;P=0.026).ROC分析显示MTT预测脑卒中后新发病灶的敏感度和特异度分别为55%和67.5%,TTP预测的敏感度和特异度分别为62.5%和65%.结论 MTT和TTP在预测卒中血管再通治疗后新发病灶的发生具有重要的价值.
脑卒中、磁共振成像、灌注成像、新发病灶、预测
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R743.3;R541.4;R445
2020-04-10(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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