构筑晶格匹配牺牲层:制备高质量自支撑薄膜材料的有效途径

摘要：

自支撑型薄膜材料因其脱离衬底束缚而展现出物化性质均一、便于成型组装、避免界面缺陷等优异特性,在柔性电子器件、智能传感系统、能量储存转换、化学分离等领域表现出巨大应用潜力.目前已开发出的自支撑型薄膜的制备方法包括化学刻蚀、物理/机械剥离、界面合成、原位转化等.

机标关键词：自支撑薄膜、有效途径、牺牲层、薄膜材料、晶格匹配、高质量

所属期刊栏目：69

分类号：TN305.7;TB383;O484

在线出版日期：2024-07-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：1666-1668