低维纳米材料的近场光学表征

摘要：

光学显微术作为一种快速、无损的表征手段在材料研究领域得到了广泛应用,但是受光的波动性制约,传统远场光学显微术无法满足低维纳米材料表征对亚衍射极限空间分辨率的需求.近年来,随着散射式扫描近场光学显微术(s-SNOM)的发展进步,光学成像的空间分辨率已经达到10 nm量级,突破了光学衍射极限.本文首先简要阐述了s-SNOM的成像原理,然后按照s-SNOM的工作模式分类介绍了其在低维纳米材料表征领域的应用研究进展,最后对s-SNOM技术未来的发展及应用进行展望.

关键词：衍射极限、低维材料、近场成像、电磁模式、纳米红外

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资助基金：国家重大科学研究计划2015CB932400;国家自然科学基金11704085;中国科学院仪器研制项目资助

在线出版日期：2019-02-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共13页

页码：3747-3759