电子碰撞引起的元素钬和锇的L壳电离

摘要：

无论在基础研究方面,还是在高技术应用方面,电子轰击原子的内壳电离截面都具有重要意义.目前电子轰击元素K和L壳层电离截面的测量多采用薄靶或气体靶,气体靶仅限于少数气体元素,而薄靶又因制靶的困难使测量工作难于开展.为了解决这些难题,提出在厚衬底上镀薄膜的新方法来测量元素内壳电离截面.用薄靶厚衬底技术测量了电子碰撞引起的元素钬和锇L壳分产生截面、总产生截面和平均电离截面,电子能量从阈能附近到36keV.同时,采用电子输运双群模型对衬底反射电子的影响作修正,并把实验结果与Gryzinski和McGuire的两个理论计算结果进行比较.

关键词：钬、锇、L壳电离、电子碰撞

所属期刊栏目：51

分类号：O6(化学)

资助基金：中国科学院资助项目10275044;国际原子能机构IAEA研究合同资助项目12354/R1

在线出版日期：2006-08-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：1369-1372