CMP中晶圆抛光雾缺陷控制

摘要：

介绍了晶圆抛光雾（Haze）产生的机理，给出了Haze在实际生产过程中的人工日检表现，同时对Haze做了分级，系统的介绍了控制Haze的因素，通过对原材料及CMP工艺的优化可有效的控制Haze，获得高质量的晶圆表面。

关键词：晶圆抛光雾、Haze目检表现、Haze分级、CMP工艺

分类号：TN3(半导体技术)

在线出版日期：2012-06-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：46-47