基于光谱参数和Cu2+吸收机理的玉米叶片铜污染预测研究

摘要：

依据多个浓度梯度下Cu2+胁迫的玉米盆栽实验,通过采用多种光谱特征参数、红边位置(REP)、红边一阶微分包围面积(FAR)和归一化植被指数(NDVI)等光谱参量;以及另五种植被指数(红边归一化植被指数NDVI705,改进红边比值植被指数mSR705,改进红边归一化植被指数mNDVI705,光化学植被指数PRI和结构不敏感色素指数SIPI);并结合Cu2+的光谱吸收机理,同时基于玉米叶片的反射光谱和Cu2+含量实验室实测数据,开展了玉米叶片光谱参数及植被指数与铜污染程度预测的相关性分析研究.实验结果表明:本文提到的大部分光谱参数及植被指数与叶片中Cu2+含量具有一定的相关性;随着Cu2+浓度增加,盆栽玉米在低于200 μg/g浓度时仍可正常生长;而在高于浓度为200 μg/g后生长受到抑制.玉米受Cu2+污染时,在Cu2+特征吸收峰810 nm处反射率有下降趋势,与无Cu2+污染时反射率上升的趋势相反,说明Cu2+光谱吸收机理可以用来区分和预测玉米是否受到Cu2+污染.

关键词：高光谱遥感、盆栽玉米、重金属铜、光谱参数、光谱吸收机理、污染预测

所属期刊栏目：17

分类号：TP751.1(遥感技术)

资助基金：国家自然科学基金41271436;中央高校基本科研业务费专项资金2009QD02

在线出版日期：2018-01-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：104-111