Al／Ti对磁控溅射 TiAlN膜层结构、硬度和摩擦性能的影响

摘要：

采用磁控溅射技术在炮钢基材表面制备不同Ti靶电流的TiAlN膜层。利用激光共聚焦、X射线衍射仪、扫描电镜、纳米压痕仪、多功能材料表面性能测试仪、蔡司显微镜等检测方法，研究不同Al／Ti对TiAlN膜层的粗糙度，相结构、纳米硬度、摩擦性能的影响。结果表明：磁控溅射沉积TiAlN膜层光滑致密，无大液滴，以TiN（200）、（220）为主相择优生长。 Al／Ti比值为1．32时，薄膜硬度处于峰值区，纳米硬度最高可达19GPa。 Al／Ti比值为0．87时硬度略微降低，但表面粗糙度最小为0．029μm，摩擦系数保持稳定最低为0．4723左右。 Al／Ti比值为0．87时，表现出较好的抗磨损性能。

关键词：磁控溅射、炮钢、TiAlN膜层、液滴、表面粗糙度、相结构、纳米硬度、摩擦系数

所属期刊栏目：16

分类号：TG174.444(金属学与热处理)

资助基金：辽宁省教育厅重点实验室基础研究项目LZ2014013

在线出版日期：2016-12-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：18-23